佳能产日本首台半导体光刻机「PPC

佳能※1于1970年出售了日本首台半导体光刻机「PPC-1※2」,本年是佳能正式投入半导体光刻机范畴50周年。半导体器材被广泛运用于从智能手机到轿车等各个范畴,在其制作过程中半导体光刻机必不可少。跟着数字技能的迅速发展,佳能的半导体光刻机也在不断晋级。

佳能产日本首台半导体光刻机「PPC-1」出售50周年

佳能光刻机的前史始于对相机镜头技能的高度运用。灵活运用20世纪60年代中期在相机镜头开发中堆集的技能,佳能研制出了用于光掩膜制作的高分辨率镜头。尔后,为了进一步扩展业务规模,佳能开端了半导体光刻机的研制,并于1970年成功出售日本首台半导体光刻机「PPC-1」,正式进入半导体光刻机范畴。

佳能于1975年出售的「FPA-141F」光刻机在世界上初次完成了1微米※3以下的曝光,此项技能作为“重要科学技能前史资料”,于2010年被日本国立科学博物馆工业技能前史资料信息中心录入。

现在佳能的光刻机阵型包含i线光刻机※4和KrF光刻机※5产品线,并依据年代的需求在不断扩展运用规模。往后,佳能将持续扩大半导体光刻机的产品阵型和可选功用,以支撑各种尺度和资料的晶圆以及下一代封装※6工艺。此外,在顶级范畴为满意电路图画进一步微细化的需求,佳能也在致力于推动纳米压印半导体制作设备※7的研制,并使之能运用于大规模出产。

自1986年起,佳能将半导体光刻机技能运用于平板显现器制作范畴,开端开发、制作和出售平板显现曝光设备。往后佳能也将持续致力于进步清晰度和出产功率,以满意液晶和OLED显现设备制作的需求。

佳能投入半导体范畴迎来50周年,往后将持续提高光刻设备技能,为社会发展做出奉献。

何谓半导体器材

佳能产日本首台半导体光刻机「PPC-1」出售50周年

半导体器材被用于智能手机、电脑、数码相机等简直一切的日常产品中,支撑着咱们的日常日子。跟着万物互联的物联网年代到来,不管是轿车和家电等各种物品上搭载的传感器和通讯器材、仍是剖析大数据的AI处理器等,半导体器材之于这个社会比以往任何时候都愈加不可或缺,而且其需求还在不断添加。

何谓半导体光刻机

半导体光刻机在半导体器材的制作过程中,承当“曝光”的效果。半导体器材是经过将精细电路图画曝光在称为晶圆的半导体基板上而制成的。半导体光刻机设备的效果是将在掩膜版上制作的电路图画经过投影透镜缩小,再将图画曝光在晶圆上。晶圆在晶圆台上顺次移动,电路图画将在一个晶圆上重复曝光。由于电路是由从微米到纳米※8级其他超精细图画经过多层堆叠制成,所以半导体光刻机也需具有超高精细的技能,以满意从微米到纳米单位级其他功能。

佳能产日本首台半导体光刻机「PPC-1」出售50周年

半导体器材制作工艺

佳能产日本首台半导体光刻机「PPC-1」出售50周年佳能产日本首台半导体光刻机「PPC-1」出售50周年

※1 为便利读者了解,本文中佳能可指代:佳能有限公司,佳能股份有限公司,佳能品牌。

※2 PPC是Projection Print Camera的简称。出售其时被称为半导体洗印设备,而非半导体光刻机。

※3 1微米是100万分之一米。

※4 运用i线光源的半导体光刻机。1nm是10亿分之1米。

※5 运用波长248nm,由氪气体和氟气体发生的激光的半导体光刻机。

※6 维护精细的IC芯片免受外部环境影响,并在装置时完成与外部的电气衔接。

※7 经过将掩膜像压膜相同直接压在晶圆的光阻上,能够如实地描摹掩膜的电路图画,与传统的光刻机比较,其特点是能够制作高分辨率的图画。

※8 1㎛是100万分之1米。1nm是10亿分之1米。

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